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マスクブランクス 欠陥検査装置
マスクブランクスは、半導体製造におけるフォトリソグラフィプロセスの基盤材料の１つです。フォトリソグラフィは、半導体デバイスの微細なパターンをシリコンウェーハ上に転写するプロセスであり、マスクブランクスはその際に使用されるフォトマスクの元となる材料です。そのため、極めて高精度で欠陥のない表面を持つ必要があり、微細回路パターンの正確な形成を支える重要な要素です。
欠陥検査装置の用途
- ガラス基板、金属膜、レジスト付き基板の異物・欠陥検査
- プロセス前後の比較検査
導入検査工程候補
対象の欠陥
- 表面：パーティクル、ピンホール、汚れ
- 裏面：汚れ
- 端面（エッジ）：チッピング、クラック、汚れ
特長
高速スキャン、欠陥抽出
専用ラインセンサーカメラ、専用光源でマスクブランクス基板全体を高速スキャン、欠陥抽出
欠陥を自動で分類
ガラスウェーハの表面、裏面の典型的な欠陥を自動で分類
光源の波長
フォトレジスト感光に影響をあたえない波長帯の光源を採用
裏面検査サポート
オプションで裏面検査をサポートすることが可能
パラメータの最適化
良品基板の基準にあわせてパラメータの最適化によりターゲット欠陥の未検出、過検出を抑制
装置運用の効率化
検査をとめずに片側ポートのカセットの交換が可能で、効率の良い装置運用が可能
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